半導體生產(chǎn)排放的廢氣和廢水中砷、磷、硫的分析方法研究
| 論文類型 | 基礎(chǔ)研究 | 發(fā)表日期 | 2003-11-01 |
| 來源 | 重慶環(huán)境科學 | ||
| 作者 | 聞瑞梅,鄧守權(quán),張亞峰,范偉 | ||
| 關(guān)鍵詞 | 高溫氫還原-氣相色譜 砷 磷 硫 分析方法 | ||
| 摘要 | 研究了一種快速、靈敏、可靠的高溫氫還原2氣相色譜分析方法[1- 2 ],并自行設計了高溫還原系統(tǒng)(還原爐、六通閥等), 測定半導體生產(chǎn)排放廢氣和廢水中的砷、磷、硫及其化合物, 樣品不需預處理, 使氣相色譜儀能直接測定固、液、氣相樣品中砷、磷、硫及其化合物的含量。砷、磷、硫的檢測限分別為0.01mg/L、0. 003mg/L 、0. 02mg/L ; 相對標準偏差分別為6. 2%、8. 6% 和0. 3% , 與經(jīng)典方法進行對比, 結(jié)果基本一致。從分析方法的誤差統(tǒng)計角度, 也說明該方法準確、可靠。 | ||
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