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光化學(xué)氧化法對陰離子表面活性劑降解的初步研究

論文類型 基礎(chǔ)研究 發(fā)表日期 2014-10-14
來源 四川環(huán)境
作者 姜少紅,,楊勇,,季民
關(guān)鍵詞 陰離子表面活性劑(LAS) ; UV/ H2O2 ; 廢水處理
摘要 本試驗(yàn)采用UV/ H2O2 光氧化法處理含有較高濃度陰離子表面活性劑(LAS)的模擬廢水, 研究了H2O2投加量、pH值、光照時(shí)間、紫外燈光強(qiáng)對LAS降解率的影響。

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