UV/TiO2去除水中磺胺甲噁唑的動力學及影響因素分析
論文類型 | 技術(shù)與工程... | 發(fā)表日期 | 2013-03-01 |
來源 | 中國環(huán)境科學 | ||
作者 | 高乃文,張晏晏,馬艷 | ||
關(guān)鍵詞 | TiO2 光催化 磺胺甲噁唑 光降解速率常數(shù) 去除率 | ||
摘要 | 采用 UV/TiO2工藝去除磺胺甲唑(SMX),研究了 SMX 在納米 TiO2(Degussa P-25)懸漿體系中的光催化去除效果,考察了 TiO2投加量、SMX 初始質(zhì)量濃度、pH 值、CO32-和叔丁醇等因素對 SMX 去除效果的影響.結(jié)果表明,UV/TiO2工藝可以有效地去除水中的 SMX,其反應過程符合擬一級反應動力學模型.當 TiO2投加量為 500mg/L,SMX 初始質(zhì)量濃度為 5mg/L,反應液 pH 值為 7 時,SMX 的去除率達到98.76%,反應速率常數(shù)k為0.1438min- |
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