高分子量高純度陽(yáng)離子聚丙烯酰胺的合成
| 論文類型 | 技術(shù)與工程 | 發(fā)表日期 | 2012-04-01 |
| 來源 | 環(huán)境工程學(xué)報(bào) | ||
| 作者 | 鄭懷禮,尤艷飛,鄧曉莉,鄭美珍,朱國(guó)成,相欣奕,蔣紹階 | ||
| 關(guān)鍵詞 | 聚丙烯酰胺 陽(yáng)離子 高純度 高分子量 殘單量 | ||
| 摘要 | 以丙烯酰胺與丙烯酰氧乙基三甲基氯化銨為單體,在復(fù)合引發(fā)劑的作用下,選擇水溶液共聚法合成高分子量與高純度陽(yáng)離子型聚丙烯酰胺(CPAM)。實(shí)驗(yàn)表明,有機(jī)偶氮引發(fā)劑A用量0.5‰、氧化還原引發(fā)劑用量0.45‰、還原劑與氧化劑摩爾比2∶1、反應(yīng)體系pH為4與反應(yīng)時(shí)間5 h條件下,CPAM分子量為1 042萬,且溶解性好。通過對(duì)聚合物殘單含量影響因素添加劑用量、反應(yīng)時(shí)間的研究,結(jié)果表明,添加劑EDTA和增溶劑D對(duì)殘留AM含量影響小,而苯甲酸鈉對(duì)聚合物殘留AM的含量影響顯著;延長(zhǎng)反應(yīng)時(shí)間至7 h,殘單含量可降低至0. | ||
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